旋片真空泵真空度本來就很高，一般的工藝需求是完全可以滿足的，但如果針對半導體行業的話，它的真空度要求特別高，需要

配真空機組才可以達到，旋片真空泵一般用作反應系統的前級泵，它與羅茨真空泵共同組成羅茨旋片真空機組，旋片泵能在

60~100℃范圍內把各種不同的混合氣體壓縮到大氣壓并排放到排氣管中。如果泵內危害性產物的壓力、濃度、溫度都比較高，這

些物質在泵及泵的附件內積存起來；這些物質在排汽管道內同周圍空氣相接觸等等，都會構成潛在的危險�！　　　�

半導體制造使用或產生的有害氣體，必須采取合適的測量方法，以防止著火和爆炸，保證設備的正常運行，防止操作人員、維修

人員及服務人員發生急性或慢性中毒。為了安全起見，應配備抽力足夠大的合適真空泵和附件，并要求采用合理的操作和維護方

法，配備適當的監控裝置。

由于旋片真空泵在半導體制造設備中的重要作用，所以我們從旋片泵正常工作的幾個條件入手，闡述一些安全工作的要素。這些

具體事項都會在以下的幾篇文章中說明，請大家耐心等待！